レーザーを光源とし、二次元や三次元のパターンをマスクレス露光可能。レーザー描画を用いることで、数十μmオーダーの小型レンズをA4サイズまでの広領域に自由に配置できます。
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研究・開発の課題をナノ加工技術で前へ。
微細加工の装置選定から実験代行、試作、受託加工まで研究開発を一貫して支援します。
直接描画による波形状
ハイアスペクトプロセス
電子ビームによるナノパターン描画